氧化鈦分散液納米高速分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。
氧化鈦分散液納米高速分散機
乳化分散機采用德國博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行,并且普通乳化機不能承受高轉速的運行??梢蕴幚砹看?,運轉更平穩(wěn),**更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料****通過分散剪切。
氧化鈦納米分散液高剪切分散機性能特點
目前,制備納米TiO2的方法很多,基本上可歸納為物理法和化學法,物理法主要為機械粉碎法,對粉碎設備要求很高;化學法主要為氣相法(CVD)、液相法和固相法,但是現(xiàn)有技術中的制備方法存在以下不足:
一、制備出的二氧化鈦粒徑偏大,一般在5-100納米,其比表面積小,表面原子數(shù)少,超微粒子的表面效應不顯著,一方面吸收的光能愈少,產(chǎn)生的e-和h+對的密度愈小,另一方面吸附的反應物也愈少,被氧化或還原的物質(zhì)濃度也愈少,因此可見光催化活性會低。
二、制造成本高,處理效果低、處理速度慢,直接造成處理使用成本增加,經(jīng)濟價值大打折扣。
三、粒徑大造成附著力低,現(xiàn)有技術制備出的納米二氧化鈦需添加粘合劑,粘合劑對人體、牲畜會有毒害,所以在應用領域受到限制。
針對現(xiàn)有技術存在的問題,結合太倉希德設備提供了一種光催化活性高、制造成本低的微粒催化劑及其分散液的制備方法。
制備包括:
(1)原料準備
(2)混合
(3)減壓蒸餾
高速剪切均質(zhì)機主要應用于處理大量生成超細懸乳液。由于同時用三個均質(zhì)頭(轉子和定子)進行處理,可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,因而生成的混合液的穩(wěn)定性更好。分散頭容易更換,適合于各種不同的應用。不同的機器都有相同的轉速和剪切率,這樣便于規(guī)模擴產(chǎn)。符合CIP和SIP的清潔標準,因此特別適合于食和藥品生產(chǎn)。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
氧化鈦分散液納米高速分散機